RF射频低温等离子处理设备RFD-200

  • 总供应量500
基本信息:
  • AC220(伏)功率
    800(瓦)
    否建议零售价
    ¥0.00
  • PLAUX-RFD-200原理
    等离子体
    工业用品牌
    PLAUX
详细信息:

RFD-200 设备配置技术参数

机台名称:RF射频低温等离子设备

机台型号:RFD-200

电源:AC220V(±10%)

功率:800VA

处理深度:100mm

主机尺寸:250(W)×200(H)×360(D)mm

主机重量:8kg

变压器尺寸:250(W)×400(H) ×300(D)mm

变压器箱重量:22kg

主机和变压器之间的连线: